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磁控溅射反射功率太大原因
如题所述
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推荐答案 2022-07-26
容抗
感抗超出范围。磁控溅射镀膜技术是物理气相沉积法(PVD)的一种,就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。如出现功率过大的原因就是容抗感抗超出范围,在不同溅射功率下制备涂层测试附着力发现,随着功率的不断增加,附着力越来越好。
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其他回答
第1个回答 2023-04-06
磁控溅射反射功率太大原因主要是因为容抗感抗超出范围
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过大怎么办
答:
其次初次使用可能是等离子体腔体的阻抗不在射频自动匹配器的阻抗范围内
,可以先将射频自动匹配器的工作模式设定为手动匹配模式进行匹配,如果还是有同样的问题建议联系商家;3、最后匹配器故障,
在
磁控溅射
镀膜过程中,薄膜沉积速率由哪些因素决定
答:
3. 气体氛围:在磁控溅射过程中
,通常会引入惰性气体(如氩气)作为气氛。气氛的压力和流量会影响溅射粒子的运动和输运,从而对沉积速率产生影响。4. 底座到靶材的距离:底座到靶材的距离,即工件到靶材的距离,会影响溅射粒子的传输和到达工件表面的能量。较近的距离可能增加溅射粒子的能量和沉积速率。5....
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