磁控溅射反射功率太大原因

如题所述

容抗感抗超出范围。磁控溅射镀膜技术是物理气相沉积法(PVD)的一种,就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。如出现功率过大的原因就是容抗感抗超出范围,在不同溅射功率下制备涂层测试附着力发现,随着功率的不断增加,附着力越来越好。
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第1个回答  2023-04-06
磁控溅射反射功率太大原因主要是因为容抗感抗超出范围